
Reuters’a göre Çin, EUV litografi makinesinin prototipini geliştirerek yarı iletken teknolojisinde Batı’nın tekelini kırabilecek tarihi bir adım attı.
Dünya teknoloji kulislerinde yankı uyandıran bir gelişme yaşandı. Çin’in, ileri seviye yarı iletken üretiminin kalbi olarak görülen EUV (Aşırı Ultraviyole Litografi) teknolojisinde kendi prototipini üretmeyi başardığı öne sürüldü. Reuters’a konuşan kaynaklar, bu gizli çalışmayı “Çin’in Manhattan Projesi” olarak nitelendiriyor.
ABD ile Çin arasında uzun süredir devam eden teknoloji merkezli küresel rekabetin en stratejik alanlarından biri yarı iletken üretimi. Washington yönetimi, gelişmiş çip üretiminde kullanılan EUV makinelerinin Çin’e satışını katı ihracat kısıtlamalarıyla engellerken, Pekin ise bu bağımlılığı sona erdirmek için dev bütçeli projeleri devreye soktu. Son ortaya çıkan bilgiler, bu çabanın somut bir aşamaya ulaştığını gösteriyor.
Reuters’ın ulaştığı bilgilere göre Çinli araştırmacılar, Shenzhen kentinde bulunan yüksek güvenlikli bir tesiste, EUV litografi makinesinin çalışan bir prototipini geliştirdi. Projenin, Batı’nın çip teknolojisindeki üstünlüğünü kırmayı hedefleyen en iddialı girişimlerden biri olduğu belirtiliyor.
Kaynaklar, projenin ölçeği ve gizlilik düzeyi nedeniyle ABD’nin atom bombası programına atıfla bu çalışmayı “Çin’in Manhattan Projesi” olarak tanımlıyor.
EUV litografi makineleri, günümüzün en gelişmiş çiplerini mümkün kılan teknoloji olarak kabul ediliyor. Bu sistemler, silikon plakalar üzerine atom ölçeğinde devreler işleyerek daha hızlı, daha güçlü ve daha az enerji tüketen çiplerin üretilmesini sağlıyor. Halihazırda bu alandaki ticari üretim, Hollandalı dev ASML’nin tekelinde bulunuyor.
Projeye yakın iki kaynağın aktardığına göre, 2025’in ilk aylarında tamamlanan Çin yapımı EUV prototipi, neredeyse bir fabrika katı büyüklüğünde. Sistemin, daha önce ASML’de görev almış mühendislerden oluşan bir ekip tarafından geliştirildiği ifade ediliyor.
Makinenin aşırı ultraviyole ışık üretmeyi başardığı, ancak henüz ticari ölçekte çalışan çip üretimine geçmediği belirtiliyor.
ASML CEO’su Christophe Fouquet, geçtiğimiz nisan ayında Çin’in bu seviyede bir teknolojiyi geliştirmesinin “çok uzun yıllar alacağını” söylemişti. Ancak ortaya çıkan prototip, Çin’in yarı iletken bağımsızlığına beklenenden daha yakın olabileceği yorumlarını beraberinde getirdi.
Çin yönetiminin hedefi, EUV teknolojisiyle çalışan çipleri 2028 yılına kadar üretmek. Ancak projeye yakın kaynaklar, 2030 tarihinin daha gerçekçi olduğuna dikkat çekiyor. Bu takvim, Çin’in Batı’yı yakalaması için daha önce öngörülen 10 yıllık sürenin oldukça altına işaret ediyor.
Bu gelişme, yalnızca teknoloji dünyasında değil, küresel jeopolitik dengelerde de yeni bir dönemin kapısını aralayabilecek potansiyele sahip. Çin’in EUV yarışındaki ilerleyişi, önümüzdeki yıllarda hem çip endüstrisini hem de büyük güçler arasındaki rekabeti derinden etkilemeye aday.
Kaynak: Haber Merkezi